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磁控溅射设备的原理是什么?
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沈阳鸿晟恒业科技有限公司
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网址:www.syhshy.net
地址:沈阳市和平区文体西路23号
产品(2)
新闻(10)
CVD设备首要应用在碳纳米资料制备职业
2021-03-24
CVD设备体系适用范畴:CVD体系设备由堆积温度控件、堆积反应室、真空操控部件和气源操控备件等部分组成亦可根据用户需求规划出产,除了首要应用在碳纳米资料制备职业...
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CVD设备的特色有哪些?
2021-03-11
CVD设备是将工件置于有氢气保护的炉内,加热到800℃以上高温,向炉内通入反响气体,使之在炉内热解,化组成新的化合物堆积在工件外表。在模具的使用中其覆膜厚度一般...
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CVD设备现代科学和技术需求运用
2021-03-04
CVD设备的运用现代科学和技术需求运用很多功用各异的无机新资料,这些功用资料有必要是高纯的,或者是在高纯资料中有意地掺入某种杂质形成的掺杂资料。可是,咱们过去所...
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CVD设备系统的适用领域
2021-02-26
CVD设备系统适用领域:CVD系统设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产,除了主要应用在碳纳米材料制备行业...
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CVD设备的沉积制法
2021-01-06
CVD设备制法是将工件置于有氢气保护的炉内,加热到800℃以上高温,向炉内通入反应气体,使之在炉内热解,化合成新的化合物沉积在工件表面。在模具的应用中其覆膜厚度...
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CVD设备化学全相沉积的特点
2020-12-07
CVD设备化学全相沉积的特点化学气相沉积工艺是将加热的模具暴露在发生反应的混合气氛(真空度≤1Pa)中,使气体与模具表面发生反应,在模具表面上生成一层薄的固相沉...
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常见的CVD设备技术
2020-12-07
化学气相沉积(CVD设备)是硬质合金领域的一个重要技术突破,它借助一种或几种含有涂层元素的化合物或单质气体在放置有基材的反应室里的气相作用或在基材表面的化学反应...
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如何为CVD设备选型?
2020-11-10
如何为CVD设备选型?CVD是化学气相沉积的简称,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,理论上即:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然...
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CVD设备的特点
2020-11-03
CVD设备的特点1)在中温或高温下,通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。2)可以在常压或者真空条件下(负压“进行沉积、通常真空沉积...
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CVD设备的应用
2020-11-03
化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制...
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