CVD设备
您当前的位置 : 首 页 > 新闻中心 > 行业资讯

磁控溅射系统的主要用途有哪些?

2020-07-17 10:37:51

磁控溅射系统的主要用途

(1)各种功能性薄膜:具有吸收,透射,反射,折射和偏振功能的薄膜。 例如,在低温下沉积氮化硅抗反射膜以提高太阳能电池的光电转换效率。

(2)在装饰领域的应用,例如各种全反射膜和半透明膜,例如手机壳,鼠标等。

(3)作为微电子领域的非热镀膜技术,主要用于化学气相沉积(CVD)或金属有机

(4)化学气相沉积(CVD)难以生长并且不适合用于材料的薄膜沉积,并且可以获得大面积的非常均匀的薄膜。

(5)在光学领域:IF封闭场非平衡磁控溅射技术也已应用于光学薄膜(例如抗反射涂层),低辐射率玻璃和透明导电玻璃中。 特别地,透明导电玻璃目前广泛地用于平板显示装置,太阳能电池,微波和射频屏蔽装置和装置以及传感器中。

(6)在机械加工工业中,自引入以来,表面功能膜,超硬膜和自润滑膜的表面沉积技术得到了极大的发展,可以有效提高表面硬度,复合韧性,耐磨性和高韧性。 温度化学稳定性。 性能,从而大大提高了涂层产品的使用寿命。

除了已广泛使用的上述领域外,磁控溅射镀膜仪还在高温超导薄膜,铁电薄膜,巨磁阻薄膜,薄膜发光材料, 太阳能电池和记忆合金薄膜。

文章内容来源于网络,如有问题,请与我们联络!

磁控溅射系统


标签

上一篇:磁控溅射系统的特点!2020-07-17
下一篇:磁控溅射系统新发展趋势2020-07-17

Z近浏览: