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随着如今科技的发达，人们对镀膜的要求越来越高。为了满足这一需要，不少厂家推出了磁控溅射系统设备，这种设备对于改良镀膜产品非常的有效，其能够以高速、低温、能够溅射在任何材料上，是目前很多企业都有在使用的一种设备。
磁控溅射系统设备的稳定性，对所生成的膜均匀性、成膜质量、镀膜速率等方面有很大的影响。磁控溅射系统设备的溅射种类有很多，按照使用的电源分，能够分为直流磁控溅射，射频磁控溅射，中频磁控溅射等等。
直流磁控溅射所用的电源是直流高压电源，通常在300～1000V，特点是溅射速率快，造价低，后期维修保养便宜。但是只能溅射金属靶材，如果靶材是绝缘体，随着溅射的深入，靶材会聚集大量的电荷，导致溅射无法继续。因此对于金属靶材通常用直流磁控溅射，由于造价便宜，结构简单，目前在工业上应用广泛。
射频磁控溅射所用的射频电源的频率通常是13.56 MHz，可以解决直流磁控溅射不能溅射绝缘靶材的问题。射频磁控溅射的特点是：绝缘靶材和金属靶材都能溅射，膜层与基片的附着力强。但是由于结构装置比较复杂，射频电源价格昂贵，维修维护成本比较高，会对人体产生辐射，并且需要外部的匹配网络等因素，不适合应用于工业生产。
磁控溅射系统设备市场前景如何
中频磁控溅射常用于反应溅射，来制备金属化合物薄膜，在腔体中除了氩气外，另外加入少量反应气体如：氮气、氧气等，使这些反应气体的分子与靶材原子一起沉积到基片上，形成金属化合物薄膜。
以上就是磁控溅射镀膜设备按照电源划分的溅射种类，希望能够给广大用户带来帮助。
