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CVD设备制法是将工件置于有氢气保护的炉内，加热到800℃以上高温，向炉内通入反应气体，使之在炉内热解，化合成新的化合物沉积在工件表面。在模具的应用中其覆膜厚度一般为6~10μm。
CVD法具有如下特点：可在大气或低于大气压下进行沉积金属、合金、陶瓷和化合物涂层，能在形状复杂的基体上或颗粒材料上沉积涂层。涂层的化学成分和结构较易准确控制，也可制备具有成分梯度的涂层。涂层与基体的结合力高，设备简单操作方便，但它的处理温度一般为900～1200℃，工件被加热到如此高的温度会产生以下问题：
1)工件易变形，心部组织恶化，性能下降。
2)有脱碳现象，晶粒长大，残留奥氏体增多。
3)形成ε相和复合碳化物。
4)处理后的母材必须进行淬火和回火。
5)不适用于低熔点的金属材料。
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