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CVD设备是将工件置于有氢气保护的炉内，加热到800℃以上高温，向炉内通入反响气体，使之在炉内热解，化组成新的化合物堆积在工件外表。在模具的使用中其覆膜厚度一般为6~10μm。
CVD法具有如下特色：可在大气或低于大气压下进行堆积金属、合金、陶瓷和化合物涂层，能在形状杂乱的基体上或颗粒材料上堆积涂层。涂层的化学成分和结构较易准确控制，也可制备具有成分梯度的涂层。涂层与基体的结合力高，设备简略操作便利，但它的处理温度一般为900～1200℃，工件被加热到如此高的温度会发生以下问题：
1)工件易变形，心部安排恶化，性能下降。
2)有脱碳现象，晶粒长大，残留奥氏体增多。
3)构成ε相和复合碳化物。
4)处理后的母材有必要进行淬火和回火。
5)不适用于低熔点的金属材料。
CVD设备化学全相堆积的特色
化学气相堆积工艺是将加热的模具暴露在发生反响的混合气氛(真空度≤1Pa)中，使气体与模具外表发生反响，在模具外表上生成一层薄的固相堆积物，如金属碳化物、氮化物、硼化物等。这里有两个关键因素。一是作为初始混合气体气相与基体固相界面的作用，也便是说各种初始气体之间在界面上的反响来发生堆积，或是通过气相的一个组分与基体外表之间的反响来发生堆积。二是堆积反响有必要在必定的能量激活条件下进行。
一般情况下发生气相堆积的化学反响有必要有足够高的温度作为激活条件，在有些情况下，能够选用等离子体或激光辅助作为激活条件，降低堆积反响的温度。总之，化学气相堆积便是利用气态物质在固体外表上进行化学反响，生成固态堆积物的过程。
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