磁控溅射设备
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多弧靶

2020-07-14 13:50:24
多弧靶
详细介绍:

多弧靶

多弧靶

技术领域本实用新型涉及一种真空离子多弧镀膜机设备的关键部件——多弧靶。

目前,国内外的真空离子多弧镀膜机设备,大多数采用直径50~100mm的圆形平面多弧靶,一台镀膜机需要配置几个甚至几十个这种靶,相应地还要配备几个甚至几十个引弧装置和电弧源,使用时,必须逐个点燃每一个靶,关注每个弧源的运行情况,因而导致真空离子多弧镀膜机设备的弧靶系统复杂,造价高,操作繁琐。另外,圆形平面多弧靶还存在控弧磁场位形不合理、靶材刻蚀不均匀、弧斑运动不稳定、经常跑弧和熄弧等缺陷,影响工业化生产过程中的镀膜质量。


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