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磁控溅射
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磁控溅射
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磁控溅射
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磁控溅射
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磁控溅射设备
磁控溅射设备的工艺流程
2022-11-01
在磁控溅射设备使用过程中,具体工艺过程对薄膜性能影响很大,主要工艺流程如下:(1)基片清洗,主要是用异丙醇蒸汽清洗,随后用乙醇、丙酮浸泡基片后快速烘干,以去除表面油污;(2)抽真空,真空须控制在2×104Pa以上,以保证薄膜的纯度;(
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磁控溅射镀膜技术
2022-10-27
溅射镀膜就是在真空中使用荷能粒子轰击靶外表,使被轰击出的粒子堆积在基片上的技术。一般,使用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴靶由镀膜资料制成,基片作为阳,真空室中通入0.1-10Pa的氩气或其它惰性气体,在阴(靶)1-3KV直流负高压或
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磁控溅射包含许多种类
2022-10-26
磁控溅射包含许多种类。各有不同工作原理和使用对象。但有总共同点:使用磁场与电场交互作用,使电子在靶外表邻近成螺旋状运转,然后电子碰击氩气发生离子的概率。所发生的离子在电场作用下撞向靶面然后溅射出靶材。磁控溅射靶源分平衡式和非平衡式,平衡式靶
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磁控溅射镀膜仪在颗粒状表面运行是否可行
2022-09-22
随着科技的发展,使用磁控溅射镀膜仪对颗粒状物体镀膜已经不再是一件难事。特别是在颗粒状金属物体表面使用镀膜技术已经相当成熟。这是应为颗粒物体表面积能都比较大,其之间能够容易进行团聚,曲率半径却是小的,因此在颗粒状物体表面上使用磁控虽然可行,但
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磁控溅射设备在工业方面的应用
2022-08-18
当磁控溅射设备入射离子的能量低于某一临界值(阀值)时,不会产生溅射;溅射原子的能量比蒸腾原子的能量大许多倍;入射离子的能量很低时,溅射原子角分布就不完全符合余弦分布规则。角分布还与入射离子方向有关。从单晶靶溅射出来的原子趋向于集中在晶体密度
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磁控溅射镀膜仪常见故障及解决办法
2022-08-18
磁控溅射是物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种,磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。磁控溅射镀膜工艺在日常操作过程中有哪些常见的故障呢?磁控溅
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