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我公司高频加热电源采用PWM脉宽调制技术,进口英飞凌(原西门子)IGBT模块作为电源核心器件,整机性能稳定可靠。严格把关“新材料”、“用足料”工艺流程,确保电源可满负荷长时间工作,任意多台电源可并机使用。本电源体积小、重量轻、功能全、性能
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磁控溅射设备磁控溅射原理:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基
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多弧镀膜设备多弧离子镀膜设备是一种高效、无害、无污染的离子镀膜设备,具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。真空电弧离子的原理是基于冷阴极自持弧光放电结合脉冲技术及磁控溅射技术,使沉积粒子细化,膜层的各项
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热丝CVD设备研发设施在公司实验室内配置了具有高度安全性的监测系统用于监控和处理各类危险有毒气体,比如硅烷等。(1)大面积团簇型薄膜沉积系统:最大衬底面积可达30厘米×40厘米,具有6个PECVD腔室(配有射频,甚高频电源以及具有脉冲