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钎焊炉是一种用于金属钎焊和光亮热处理的设备。适用于批量生产的中小型不锈钢零件（餐具、刀具、五金等），如马氏体不锈钢光亮淬火、回火，奥氏体不锈钢光亮退火。钎焊炉组成部分为：脱脂炉→喷淋系统→烘干传动→烘干炉→烘干被动、钎焊被动→前室→钎焊炉→
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真空退火炉设备是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入
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磁控靶磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡式和非平衡式，平衡式
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多弧靶技术领域本实用新型涉及一种真空离子多弧镀膜机设备的关键部件——多弧靶。目前，国内外的真空离子多弧镀膜机设备，大多数采用直径50～100mm的圆形平面多弧靶，一台镀膜机需要配置几个甚至几十个这种靶，相应地还要配备几个甚至几十个引弧装置和
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多弧靶技术领域本实用新型涉及一种真空离子多弧镀膜机设备的关键部件——多弧靶。目前，国内外的真空离子多弧镀膜机设备，大多数采用直径50～100mm的圆形平面多弧靶，一台镀膜机需要配置几个甚至几十个这种靶，相应地还要配备几个甚至几十个引弧装置和
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束源炉在真空环境中，将材料加热并镀到基片上称为真空蒸镀,蒸镀法的加热方式有电流加热、电子束加热、辐射加热等，当蒸发源达到蒸发温度后，会以分子、原子或团簇等自由程较大的状态出现，这些粒子遇到温度较低的基底时就会就会沉积形成薄膜，蒸镀法有纯度高
